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PVD

PVD ist die Abkürzung für Physical Vapour Deposition (= physikalische Gasphasenabscheidung). Mit dem Verfahren sind Beschichtungen im Nanometerbereich möglich. Bei dem vakuumbasierten Prozess werden metallische Stoffe wie beispielsweise Titannitrid, Titanaluminiumnitrid oder Titancarbonitridin in die Gasphase überführt. Durch Kondensation des Materialdampfes auf einen Festkörper, wie z. B. Beschläge, entsteht die hauchdünne Schicht auf der Oberfläche.

Es gibt verschiedene Prozesse wie unter anderem thermisches Verdampfen, Elektronenstrahlverdampfen, Laserstrahlverdampfen, Lichtbogenverdampfen, aber auch Sputtern oder Ionenplattieren.

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